半導体加熱技術の将来

製造現場においては、ソフトベイクの際にわずか0.5度の偏差があるだけで、重要な寸法の制御が失われ、ウェーハが廃棄処分となってしまいます。リソグラフィーやフォトレジスト処理においては、熱安定性は「便利な機能」ではなく、プロセスそのものです。私たちは、24時間365日ウェーハを処理する環境に適した加熱...