标签为“硅”的页面如下 硅通孔加热器 在300mm生产线上,一旦热均匀性开始偏移,TSV叠层工艺就会失效。光刻胶烘烤过程中温度偏差仅1摄氏度,就会导致通孔剖面异常,而热循环引发的颗粒爆发则可能导致整批次报废。我们设计了TSV加热器,以消除这种不确定性。 技术核心原理 我们采用短波红外加热元件,配合石英基热架构,使热量直接且快速耦合——... Read more...
硅通孔加热器 在300mm生产线上,一旦热均匀性开始偏移,TSV叠层工艺就会失效。光刻胶烘烤过程中温度偏差仅1摄氏度,就会导致通孔剖面异常,而热循环引发的颗粒爆发则可能导致整批次报废。我们设计了TSV加热器,以消除这种不确定性。 技术核心原理 我们采用短波红外加热元件,配合石英基热架构,使热量直接且快速耦合——... Read more...