Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan teknologi IR dalam proses pengeringan semikonduktor
Jika anda pernah berada di fasiliti pengeluaran semikonduktor, pasti anda tahu betapa sukar proses pengeringan selepas proses pencucian. Untuk waktu yang lama, kita bergantung pada sistem penggunaan udara panas untuk mengeringkan permukaan wafer. Namun, sejujurnya, cara ini sangat lambat. Kita perlu menunggu udara mengedarkan haba ke seluruh permukaan wafer, dan proses ini memakan masa yang lama.
Itulah sebabnya kita beralih kepada teknologi inframerah (IR). Daripada menunggu udara melakukan kerja tersebut, sinar IR akan langsung menyentuh permukaan wafer. Cara ini jauh lebih efisien.
Mendapatkan kembali masa yang terbuang
Sistem penggunaan udara panas memerlukan ruang yang besar, dan ia juga menyebabkan wafer perlu berada dalam keadaan basah untuk waktu yang lama agar air dapat dikeringkan sepenuhnya, tanpa meninggalkan kesan tegangan permukaan yang tidak diinginkan.
Kita menggunakan lampu IR yang tahan air untuk mengelakkan masalah ini. Dengan tenaga yang dihasilkan oleh lampu IR, air dapat dikeringkan dengan cepat. Proses pengeringan yang sebelumnya memerlukan masa beberapa minit kini hanya memerlukan beberapa saat sahaja. Ini membolehkan kita menghasilkan lebih banyak wafer setiap jam, tanpa perlu membongkar dinding untuk memberi ruang kepada peralatan tambahan.
Dirancang khusus untuk keadaan berkelembapan tinggi
Masalahnya ialah lampu IR biasa tidak tahan air. Jika diletakkan dalam suasana yang berkelembapan tinggi atau disiram dengan air, lampu tersebut akan rosak.
Untuk mengatasi masalah ini, kita menggunakan lampu IR yang dilindungi oleh lapisan kuarsa dan penyegel tahan air. Lampu-lampu ini direka untuk tahan terhadap kelembapan dan perubahan suhu yang drastik. Dengan cara ini, haba dapat dipindahkan secara langsung ke permukaan wafer, dan prestasi lampu tetap stabil walaupun keadaan sekeliling lembap.
Bahagian yang rumit
Namun, bukan semua perkara mudah. Teknologi IR menghasilkan haba yang sangat tinggi dalam kawasan yang kecil, jadi kita perlu berhati-hati agar permukaan wafer tidak terlalu panas. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik, ia boleh menyebabkan permukaan wafer terlalu panas atau sensor rosak.
Tetapi jika keseimbangan ini dapat dicapai, maka semuanya akan menjadi mudah. Kita boleh menggantikan pemampat udara yang besar dan bising dengan sistem IR yang lebih kompak. Pada akhirnya, tujuannya adalah untuk mempercepat proses pengeringan wafer.