Pada permukaan litograf, anda tidak boleh membiarkan berlaku sebarang perubahan suhu yang ketara. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk mengganggu profil fotoresist tersebut. Ini akan menyebabkan kesukaran untuk mengawal kualiti CD yang dihasilkan. Jika suhu yang digunakan terlalu tinggi, ia akan menyebabkan masalah seperti pembentukan zarah-zarah berlebihan pada permukaan CD, atau lebih teruk lagi, kehilangan daya lekat antara bahan-bahan yang digunakan. Apa yang diperlukan ialah suhu yang tepat dan stabil, supaya proses pembakaran dapat berjalan dengan lancar dari masa ke masa.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan lampu inframerah berfrekuensi rendah untuk memanaskan fotoresist tersebut, agar ia dapat dipanaskan secara efisien. Di kawasan pemanasan ini, suhu pada setiap bahagian wafer dikawal pada tahap ±0.1°C, dan ketepatan suhu ini sangat tinggi. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa menambahkan sebarang zarah kontaminan. Reka bentuk sistem ini disesuaikan agar sesuai dengan spesifikasi alat-alat semikonduktor yang digunakan. Kami juga menentukan waktu yang diperlukan untuk proses pemanasan, serta tingkat stabilitas suhu yang diinginkan. Proses pemanasan ini harus dilakukan secara konsisten, bukan secara rawak.
Mengapa sistem ini efektif dalam produksi
Anda boleh mengukur keberkesanan sistem ini. Proses pemanasan yang dilakukan secara cepat akan mengurangkan variasi suhu antara setiap batch produk. Kawalan suhu yang lebih baik akan membawa kepada hasil yang lebih baik, serta mengurangkan keperluan untuk memproses semula produk. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu hanya mengeluarkan haba apabila diperlukan sahaja. Sistem ini juga direka untuk beroperasi 24/7, dengan data operasi yang menunjukkan bahawa sistem ini dapat berfungsi tanpa gangguan untuk jangka masa yang lama.
Apa yang perlu diperhatikan sebelum penggunaan
Pemasangan sistem ini memerlukan penyelarasan antara antaramuka elektrik dan mekanikal alat tersebut, serta penyesuaian parameter suhu agar sesuai dengan sifat kimia fotoresist dan struktur substrat yang digunakan. Lampu ini akan berfungsi dengan lebih baik jika ruang pemanasan benar-benar tertutup rapat; sebarang gangguan aliran udara akan menyebabkan ketidakkonsistenan suhu. Lakukan ujian awal untuk memastikan semua parameter berfungsi dengan baik, agar proses produksi dapat berjalan dengan konsisten.