Mendapatkan haba di tempat yang sebenarnya diperlukan
Ketika membina sensor biologi pada wafer, kita memerlukan haba yang tepat untuk sampai ke permukaan wafer tersebut. Namun, masalahnya ialah lampu inframerah biasa menghasilkan haba yang tidak efektif. Sebahagian besar tenaga yang dihasilkan akan dipantulkan kembali atau tersebar ke mana-mana. Akibatnya, kita perlu membayar kos elektrik yang digunakan untuk memanaskan badan mesin sahaja.
Kami telah mencari cara yang lebih baik. Kami menggunakan lapisan emas yang mempunyai kemampuan pantulan cahaya yang tinggi untuk melapisi bahagian lampu tersebut.
Mengapa emas?
Ia berkaitan dengan cara cahaya berkelakuan. Aluminium boleh digunakan untuk tujuan umum, tetapi emas jauh lebih efektif untuk memantulkan cahaya inframerah yang dihasilkan oleh filamen tungsten. Dengan menggunakan reflektor emas, cahaya dapat dipantulkan ke arah yang diinginkan. Ini membolehkan lebih banyak tenaga sampai ke sasaran tanpa perlu menaikkan kuasa lampu secara berlebihan.
Masalah yang perlu diatasi
Anda tidak boleh sekadar meningkatkan kuasa lampu begitu saja. Jika reflektor terlalu kuat, ia akan menyebabkan “titik panas” pada permukaan wafer. Ini sangat merosakkan sensor biologi kerana ia boleh merosakkan struktur wafer atau lapisan kimia yang telah diproses dengan teliti. Anda perlu mencari keseimbangan antara jarak fokus reflektor dan kedudukan wafer agar suhu dapat dikawal dengan baik di seluruh permukaan wafer.
Kami telah merekabentuk alat ini agar boleh digunakan sebagai pengganti sistem IR yang sudah ada. Namun, perlu diingat bahawa sistem ini sangat efisien, jadi bahagian belakang alat tersebut akan tetap sejuk, sementara kawasan sasaran akan menjadi panas dengan cepat. Anda perlu memastikan pengawal PID dan termokopel berfungsi dengan baik agar dapat mengikuti peningkatan suhu yang cepat ini.
Kelebihannya
Yang terbaik ialah anda tidak perlu menggunakan banyak lampu untuk mencapai suhu yang diinginkan. Ini bermakna sistem pemanasan ini memerlukan ruang yang lebih sedikit, dan sumber tenaga juga tidak perlu bekerja keras. Haba akan sampai ke tempat yang sebenarnya diperlukan pada wafer, dan bilik bersih tersebut tidak akan menjadi terlalu panas.