
Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Merusaknya
Mengeringkan wafer sensor MEMS merupakan proses yang membutuhkan kehati-hatian ekstra. Air perlu dihilangkan secepat mungkin, tetapi jika dilakukan secara terlalu agresif, struktur mikro yang rapuh tersebut akan rusak.
Untuk mencapai keseimbangan yang tepat, kami menggunakan pemanas inframerah yang dikombinasikan dengan reflektor berlapis emas. Tujuannya sangat sederhana: menghindari pemborosan energi dan memastikan setiap foton benar-benar mengenai wafer.
Mengapa Emas?
Kebanyakan orang menggunakan reflektor berbahan aluminium. Namun, masalahnya adalah aluminium menyerap banyak energi inframerah. Kami memilih emas karena bahan ini sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah kembali ke arah yang tepat.
Namun, hal ini bukan hanya soal pantulan cahaya saja. Dengan menggabungkan lapisan emas dengan bentuk parabola yang tepat, kita dapat “mengarahkan” panas tersebut. Dengan demikian, kita tidak perlu menaikkan tegangan lampu untuk mendapatkan hasil yang diinginkan. Cara ini lebih efisien, bukan?
Mencari Keseimbangan antara Energi dan Panas
Saat mendesain sistem ini, yang penting adalah mencari keseimbangan antara kecepatan pengeringan dan tingkat keamanan. Memang, lampu berdaya tinggi cocok digunakan untuk proses pengeringan yang cepat. Namun, lampu tersebut menghasilkan panas yang sangat besar. Jika sistem pendinginan tidak berfungsi dengan baik, panas tersebut akan menumpuk. Akibatnya, suhu wafer akan naik, dan wafer bisa rusak. Ini tentu bukan hal yang diinginkan.
Memastikan Sistem Berfungsi dengan Baik
Kami merancang unit-unit ini agar dapat diganti dengan cepat. Tidak ada yang ingin proses produksi terhenti berjam-jam. Reflektor tersebut disusun sedemikian rupa sehingga tidak ada “titik dingin” di permukaan wafer. Namun, perlu diingat bahwa emas mudah terpengaruh oleh zat-zat korosif. Jika pabrik memiliki banyak uap korosif, lapisan emas tersebut akan rusak. Anda perlu melindunginya atau mengawasinya secara seksama. Jangan lupa untuk menggunakan pelarut yang tepat saat membersihkannya. Penggunaan kain kasar yang salah dapat merusak permukaan wafer, dan dengan hilangnya fokus cahaya tersebut, efisiensi proses pengeringan pun akan menurun.