Op een lithografische werkplek kun je het je niet veroorloven dat er afwijkingen optreden. Een zachte verhitting die zelfs maar een halve graad verschilt, kan het profiel van de fotoresist verstoren. Hierdoor moet je hard vechten om de controle over de productieproces te behouden. Als de verhitting te heftig is, kunnen er oneffenheden op het oppervlak ontstaan, of er kan zelfs sprake zijn van een verminderde hechting tussen de componenten. Dit probleem wordt pas laat opgemerkt, waardoor het moeilijk is om het nog te corrigeren. Wat je nodig hebt, is een warmtebron die snel warmte levert, deze precies waar je hem wilt hebben plaatst en deze warmte over meerdere cycli behoudt.
Wat belangrijk is achter de schermen
We hebben de IR-lamp voor het drogen van de fotoresist ontworpen met behulp van kortegolflengte-infraroodlicht. Hierdoor wordt de fotoresist snel en gelijkmatig verwarmd. In de verhittingszone wordt de gelijkmatigheid op het niveau van de chip gehouden op ±0,1°C. De herhaalbaarheid wordt ook nauwkeurig geregeld. Het systeem kan worden gebruikt in zuiverruimtes van klasse 1–100, zonder dat er nieuwe deeltjes worden gegenereerd. Het systeem is ook zo ontworpen dat het past bij de afmetingen, interfaces en thermische eigenschappen van de andere semiconductortechnologieën die je al gebruikt. We noemen ook de uitgangstemperatuur, de tijd die nodig is om de gewenste temperatuur te bereiken en de stabiliteit van de temperatuur. De verhittingsstap moet immers een deterministische handeling zijn – geen variabele die je steeds moet bijstellen.
Waarom het werkt in de productie
Je kunt de voordelen gemeten. Zowel zachte als harde verhittingen bereiken de gewenste temperatuur in seconden. Hierdoor neemt de afwijking tussen verschillende batches af en wordt het procespreciezer. Een betere temperatuurregeling betekent minder oneffenheden, betere hechting en minder herwerkingsprocedures. De energieverbruik neemt ook af, omdat de lamp alleen warmte levert wanneer dat nodig is. Bovendien is het systeem ontworpen voor 24/7 gebruik – gegevens uit de praktijk bewijzen dat het systeem langdurig kan werken zonder problemen.
Wat je van tevoren moet controleren
Bij de installatie moet je eerst de elektrische en mechanische interfaces van het apparaat matchen. Vervolgens moet je de thermische instellingen aanpassen aan de chemische eigenschappen van de fotoresist en de ondergrond waarop deze wordt gebruikt. De lamp presteert het beste wanneer de verhittingskamer goed gesloten is; eventuele verstoringen in de luchtcirculatie zorgen voor lokale oneffenheden. Voer eerst een grondige test uit om het profiel vast te stellen en de instellingen te bepalen. Eenmaal dit gedaan, werkt het proces met de consistentie die je nodig hebt.