<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Фотополімер on Premium Infrared Heat Ace</title>
		<link>http://ir-heat-ace.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/</link>
		<description>Recent content in Фотополімер on Premium Infrared Heat Ace</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ace.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа інфрачервоного світла для в ялення фотополімеру</title>
				<link>http://ir-heat-ace.com/uk/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ace.com/uk/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ace.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Лампа інфрачервоного світла для в ялення фотополімеру&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На літографічному столі не можна допускати жодних відхилень у температурі. Навіть незначне зміщення температури на півградуса може порушити профіль фоторезисту, і тоді доводиться боротися за контроль над процесом. Якщо дозволити температурі коливатися, з’являються недоліки у вигляді крапель чи інших дефектів, а ще гірше – втрата адгезії, яку складно виправити. Що потрібно – це тепло, яке швидко досягає потрібної температури та залишається на ній протягом кількох циклів.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у цьому процесі&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми створили ІЧ-лампу для висушування фоторезисту на основі короткочастотного інфрачервоного світла, щоб резист швидко нагрівався. У зоні нагріву однорідність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C, а повторюваність результатів контролюється за допомогою точного термального регулювання. Система працює у чистих приміщеннях класу 1–100 без утворення додаткових частинок. Вона розроблена так, щоб підходити до параметрів та термального профілю основних пристроїв для обробки напівпровідників. Ми вказуємо параметри вихідної потужності, час нагрівання та стабільність температури, адже крок нагрівання має бути точно контрольованим процесом, а не ще однією змінною.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
