http://ir-heat-ace.com/uk/tags/%D0%BB%D1%96%D0%BA%D1%83%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BD%D1%8F/ Recent content in Лікування on Premium Infrared Heat Ace Hugo uk Fri, 24 Jul 2026 11:47:34 +0800 http://ir-heat-ace.com/uk/posts/optimizing-thermal-energy-capture-with-high-reflectivity-systems-for-wafer-curing/ Fri, 24 Jul 2026 11:47:34 +0800 http://ir-heat-ace.com/uk/posts/optimizing-thermal-energy-capture-with-high-reflectivity-systems-for-wafer-curing/ <p><img src="http://ir-heat-ace.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Відбивач для лампи для висушування пластинок"></p> <p>Давайте поговоримо про вашу систему висушування пластин.<br> Ось одна таємниця, яку більшість людей не помічають: лампа – це лише половина всього процесу. Ви можете мати найдрожчу у світі ІЧ-лампу, але якщо ваш відбивач є неякісним, ви фактично марнуєте енергію. Більша частина тепла просто витікає в корпус пристрою, що є марнуванням енергії та створює проблеми для системи охолодження. Якщо ви хочете створити сучасний завод, де кожна деталь має значення, ви повинні почати з контролю над тим, куди саме потрапляє тепло.</p> http://ir-heat-ace.com/uk/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 00:38:45 +0800 http://ir-heat-ace.com/uk/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-ace.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Лампа інфрачервоного світла для в ялення фотополімеру"></p> <p>На літографічному столі не можна допускати жодних відхилень у температурі. Навіть незначне зміщення температури на півградуса може порушити профіль фоторезисту, і тоді доводиться боротися за контроль над процесом. Якщо дозволити температурі коливатися, з’являються недоліки у вигляді крапель чи інших дефектів, а ще гірше – втрата адгезії, яку складно виправити. Що потрібно – це тепло, яке швидко досягає потрібної температури та залишається на ній протягом кількох циклів.</p> <p><strong>Що є важливим у цьому процесі</strong><br> Ми створили ІЧ-лампу для висушування фоторезисту на основі короткочастотного інфрачервоного світла, щоб резист швидко нагрівався. У зоні нагріву однорідність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C, а повторюваність результатів контролюється за допомогою точного термального регулювання. Система працює у чистих приміщеннях класу 1–100 без утворення додаткових частинок. Вона розроблена так, щоб підходити до параметрів та термального профілю основних пристроїв для обробки напівпровідників. Ми вказуємо параметри вихідної потужності, час нагрівання та стабільність температури, адже крок нагрівання має бути точно контрольованим процесом, а не ще однією змінною.</p>