Na podłożu litograficznym nie można pozwolić sobie na żadne odchylenia. Nawet półstopniowe odchylenie temperatury może zakłócić profil fotorezystu, a wtedy trzeba ciągle walkować o utrzymanie kontroli nad procesem. Jeśli temperatura będzie się zmieniać, pojawią się problemy z przyleganiem materiału do powierzchni, albo jeszcze gorsze – utrata przyczepności, co odkrywa się zbyt późno, by móc to łatwo naprawić. Potrzebna jest temperatura, która szybko dociera do celu, utrzymuje się tam dokładnie tam, gdzie chcemy, i pozostaje tak przez cały czas.
Co jest ważne w tym procesie Stworzyliśmy lampę IR do wysuszania fotorezystu, która wykorzystuje krótkofalowe światło NIR, dzięki czemu fotorezyst nagrzewa się szybko i równomiernie. W całej strefie nagrzewania jednolitość temperatury na poziomie płyty wynosi ±0,1°C, a powtarzalność jest utrzymywana w bardzo wąskich granicach. System funkcjonuje w pomieszczeniach klasy 1–100 bez tworzenia jakichkolwiek cząstek, a jego konstrukcja odpowiada wymaganiom i profilowi termicznemu najpopularniejszych narzędzi do produkcji półprzewodników. Podajemy informacje na temat mocy światła, czasu nagrzewania oraz stabilności temperatury, ponieważ krok nagrzewania musi być procesem deterministycznym – a nie czynnikiem, który wymaga ciągłej kontroli.
Dlaczego ten system sprawdza się w produkcji Można ocenić efekty tego rozwiązania. Proces nagrzewania odbywa się w ciągu kilku sekund, więc odchylenia temperatury pomiędzy poszczególnymi partiami produktów są minimalne, a okno temperaturowe staje się bardziej precyzyjne. Lepsza kontrola temperatury oznacza mniej problemów z przyleganiem materiału, lepszą przyczepność oraz mniej konieczności poprawek. Zużycie energii też spada, ponieważ lampa dostarcza ciepło tylko w momencie potrzeby, a nie cały czas. Ponadto system jest przeznaczony do pracy 24/7 – dane z rzeczywistej produkcji potwierdzają, że może pracować przez długi czas bez przerw.
Na co należy zwrócić uwagę przy instalacji Instalacja polega na dopasowaniu interfejsu elektrycznego i mechanicznego urządzenia, a następnie dostosowaniu parametrów termicznych do charakterystyk fotorezystu i materiału, który używamy. Lampa działa najlepiej, gdy komora nagrzewania jest dobrze hermetyzowana; wszelkie zakłócenia przepływu powietrza powodują lokalne niejednorodności temperatury. Konieczne jest przeprowadzenie wstępnej kalibracji, aby ustalić odpowiednie parametry. Gdy to zostanie zrobione, proces będzie przebiegać w sposób spójny, co jest istotne dla efektywności produkcji.