<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresist on Premium Infrared Heat Ace</title>
		<link>http://ir-heat-ace.com/nl/tags/fotoresist/</link>
		<description>Recent content in Fotoresist on Premium Infrared Heat Ace</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ace.com/nl/tags/fotoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Infrarode lamp voor het harden van fotoresist</title>
				<link>http://ir-heat-ace.com/nl/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ace.com/nl/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ace.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Infrarode lamp voor het harden van fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op een lithografische werkplek kun je het je niet veroorloven dat er afwijkingen optreden. Een zachte verhitting die zelfs maar een halve graad verschilt, kan het profiel van de fotoresist verstoren. Hierdoor moet je hard vechten om de controle over de productieproces te behouden. Als de verhitting te heftig is, kunnen er oneffenheden op het oppervlak ontstaan, of er kan zelfs sprake zijn van een verminderde hechting tussen de componenten. Dit probleem wordt pas laat opgemerkt, waardoor het moeilijk is om het nog te corrigeren. Wat je nodig hebt, is een warmtebron die snel warmte levert, deze precies waar je hem wilt hebben plaatst en deze warmte over meerdere cycli behoudt.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
