<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotolak on Premium Infrared Heat Ace</title>
		<link>http://ir-heat-ace.com/nl/tags/fotolak/</link>
		<description>Recent content in Fotolak on Premium Infrared Heat Ace</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 20:38:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ace.com/nl/tags/fotolak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Beste infraroodlamp voor fotolak</title>
				<link>http://ir-heat-ace.com/nl/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:38:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ace.com/nl/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ace.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Beste infraroodlamp voor fotolak&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografievloer is het bakken van photoresist niet slechts een thermische stap, maar een dimensionale. Een afwijking van 1°C tijdens de soft bake vertaalt zich direct in de controle van kritische afmetingen en het profiel van de zijwand. We hebben onze infraroodlamp voor photoresist gebouwd met deze realiteit als uitgangspunt, met als doel thermische uniformiteit op wafer-niveau van ±0,1°C en bakprofielen die herhaalbaar zijn over de volledige batch.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat technisch relevant is&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;We gebruiken korte golf-infrarood met een snel reagerende emitter om warmte snel en gericht toe te voeren. Het systeem houdt de ingestelde waarde nauwkeurig vast tijdens zowel de soft bake als de hard bake, met een gesloten regelkring die compenseert voor lampveroudering en spanningsschommelingen op de lijn. De constructie is compatibel met Class 1–100 cleanrooms, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;waarbij&lt;/a&gt; materialen en afdichtingen worden toegepast die de deeltjesgeneratie minimaliseren. In productie resulteert dit in minder defecten, stabiele opbrengst en een consistente photoresist-prestatie van de eerste tot de laatste wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
