Op de productielijn is al een verschil van een halve graad tijdens het verhitten van de wafers voldoende om de controle over de cruciale afmetingen te verstoren en daardoor moeten de wafers worden weggegooid. In de lithografie- en fotoresistentverwerking is thermische stabiliteit geen ‘handig extraatje’ – het is juist essentieel voor het proces. We hebben het verwarmingssysteem zo ontworpen dat het kan werken in een 24/7-flow van wafers, waarbij elke verhittingscyclus op dezelfde manier moet verlopen, uur na uur, zonder uitzonderingen.
Wat technisch gezien belangrijk is:
Over de hele oppervlakte van de wafer moeten we de temperatuur binnen ±0,1°C houden. Op deze manier wordt voorkomen dat er te veel energie wordt verbruikt bij het verhitten van de wafers. Kortegolflengtestraling zorgt voor een snelle opwarming met nauwkeurige controle. De hete zone is zo ontworpen dat er geen deeltjes ontstaan – het systeem is dus geschikt voor gebruik in cleanrooms van klasse 1 tot 100. De herhaalbaarheid is ook hoog: de temperatuurwaarden blijven binnen 0,1% stabiel, zodat de cruciale afmetingen constant blijven.
Waarom dit werkt in de productie:
In de dagelijkse bedrijfsvoering leidt deze precisie tot minder herwerkingswerkzaamheden, een stabiele opbrengst en betrouwbare cyclustijden. Het verhiten van de wafers vindt in seconden plaats, met minimale afwijkingen – afwijkingen die anders kunnen leiden tot problemen met de vorm van de wafers. De energieverbruik wordt verminderd omdat het systeem alleen dan wordt verhit wanneer dat nodig is, en de temperatuur constant blijft.
Betrouwbaarheid:
De apparaten werken continu, zonder ongeplande stilstanden. De levensduur van de apparaten wordt verlengd, zodat er minder tijd nodig is voor onderhoud en vervanging van onderdelen.
Praktische details:
Het apparaat heeft een gespecialiseerde, gefilterde stroombron nodig. Ook is het belangrijk om een goede kwaliteit koelmiddel te gebruiken, zodat de temperatuur constant kan worden gehouden. Integratie is gemakkelijk mogelijk op de meeste apparaten voor het verwerken van wafers, maar de afmetingen van de hete zone moeten overeenkomen met de geometrie van de kamer – alleen zo kan de gewenste uniformiteit worden bereikt.
Plannen van tevoren:
Plan de interface van tevoren. Dan kun je het apparaat eenvoudig instellen en gebruiken – steeds op dezelfde manier.