<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengubati on Premium Infrared Heat Ace</title>
		<link>http://ir-heat-ace.com/ms/tags/mengubati/</link>
		<description>Recent content in Mengubati on Premium Infrared Heat Ace</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ace.com/ms/tags/mengubati/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah untuk proses pengeringan bahan photoresist</title>
				<link>http://ir-heat-ace.com/ms/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:38:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ace.com/ms/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ace.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah untuk proses pengeringan bahan photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada permukaan litograf, anda tidak boleh membiarkan berlaku sebarang perubahan suhu yang ketara. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk mengganggu profil fotoresist tersebut. Ini akan menyebabkan kesukaran untuk mengawal kualiti CD yang dihasilkan. Jika suhu yang digunakan terlalu tinggi, ia akan menyebabkan masalah seperti pembentukan zarah-zarah berlebihan pada permukaan CD, atau lebih teruk lagi, kehilangan daya lekat antara bahan-bahan yang digunakan. Apa yang diperlukan ialah suhu yang tepat dan stabil, supaya proses pembakaran dapat berjalan dengan lancar dari masa ke masa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
