Cara Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Merosakkannya
Mengeringkan wafer sensor MEMS merupakan proses yang memerlukan ketelitian yang tinggi. Air perlu dikeluarkan dengan cepat, tetapi jika cara yang digunakan terlalu agresif, struktur mikro yang rapuh pada wafer tersebut akan rosak.
Untuk mencapai keseimbangan yang tepat, kami menggunakan pemanas inframerah bersama-sama dengan reflektor yang dilapisi emas. Tujuannya sangat jelas: mengurangkan pembaziran tenaga dan memastikan setiap foton sampai ke wafer tersebut.
Mengapa Emas?
Kebanyakan orang menggunakan reflektor berbahan aluminium, tetapi masalahnya ialah aluminium menyerap banyak tenaga inframerah. Kami memilih emas kerana ia sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah kembali ke arah yang sepatutnya.
Ia bukan sekadar soal pemantulan sahaja. Dengan menggabungkan lapisan emas dengan lengkungan parabola yang tepat, kita dapat “mengarahkan” haba tersebut ke tempat yang diinginkan. Ini bermakna kita tidak perlu meningkatkan voltan lampu untuk mendapatkan hasil yang baik. Ia lebih efisien, bukan lebih sukar.
Mencapai Keseimbangan Antara Tenaga dan Haba
Ketika menyusun sistem ini, kita perlu mencari keseimbangan antara kelajuan dan keselamatan. Memang benar bahawa lampu berkuasa tinggi sangat berguna untuk memproses wafer dalam kuantiti yang banyak. Namun, ia menghasilkan haba yang sangat banyak. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik, haba tersebut akan bertambah. Akibatnya, suhu wafer akan meningkat, dan ini boleh merosakkan wafer tersebut. Ini merupakan masalah yang perlu dielakkan.
Memastikan Sistem Berfungsi dengan Baik
Kami merancang unit ini agar mudah diganti. Tiada siapa yang mahu proses pengeluaran terhenti selama berjam-jam. Reflektor tersebut disusun dengan sempurna agar tidak ada kawasan “sejuk” pada permukaan wafer. Namun, perlu diingat bahawa emas mudah rosak jika terdedah kepada bahan korosif. Anda perlu melindungi lapisan emas tersebut atau memantau ia dengan teliti. Selain itu, berhati-hati semasa membersihkannya. Gunakan pelarut yang sesuai. Jika menggunakan kain kasar untuk membersihkannya, permukaan wafer boleh tercalar. Apabila fokus haba hilang, keefisienan sistem juga akan menurun.