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		<title>Fotoresist on Premium Infrared Heat Ace</title>
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				<title>La migliore lampada a infrarossi per fotopolimero</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ace.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;La migliore lampada a infrarossi per fotopolimero&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sulla linea di litografia, la cottura del photoresist non è solo un passaggio termico, ma anche dimensionale. Una variazione di 1°C nella soft bake si riflette nel controllo delle dimensioni critiche e nel profilo della parete laterale. Abbiamo progettato la nostra lampada a infrarossi per il photoresist tenendo conto di questa realtà, puntando a un’uniformità termica a livello wafer di ±0,1°C e a profili di cottura ripetibili su tutto il lotto.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Aspetti tecnici rilevanti&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo infrarossi a onda corta con un emettitore a risposta rapida per fornire calore in modo veloce e preciso. Il sistema mantiene il setpoint con elevata precisione sia durante la soft bake che la hard bake, grazie a un controllo a ciclo chiuso che compensa l’invecchiamento della lampada e le variazioni di tensione di linea. La costruzione è compatibile con cleanroom di Classe 1–100, impiegando materiali e guarnizioni che riducono la generazione di particelle. In produzione, &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;questo&lt;/a&gt; si traduce in difetti ridotti, resa stabile e prestazioni del photoresist costanti dal primo all’ultimo wafer.&lt;/p&gt;</description>
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