Perché abbandoniamo l’aria calda a favore delle radiazioni infrarosse nella disidratazione dei semiconduttori
Se avete trascorso del tempo in uno stabilimento di produzione, conoscete bene le difficoltà legate alla disidratazione dei semiconduttori dopo il lavaggio. Per molto tempo abbiamo utilizzato l’aria calda per questo scopo. Ma siamo onesti: il metodo è lento. Bisogna aspettare che l’aria trasporti il calore, e questo richiede molto tempo.
Ecco perché abbiamo optato per le radiazioni infrarosse. Invece di aspettare che l’aria faccia il lavoro, le radiazioni infrarosse colpiscono direttamente la superficie dei wafer. È un metodo completamente diverso.
Ritrovare il proprio tempo
I sistemi basati sull’aria calda sono ingombranti. Occupano troppo spazio nelle sale pulite e costringono i wafer a rimanere lì per lunghi periodi, solo per assicurarsi che l’acqua sia completamente eliminata, senza però causare eventuali segni sulla superficie dei wafer.
Noi utilizziamo lampade infrarosse impermeabili per evitare questi problemi. Poiché l’energia delle radiazioni infrarosse penetra direttamente nel liquido e riscalda immediatamente il substrato, è possibile ridurre dal minuto al secondo il tempo necessario per la disidratazione. In questo modo, si aumenta il numero di wafer che possono essere trattati all’ora, senza la necessità di modificare lo spazio disponibile nella sala pulita.
Progettate per ambienti umidi
Il problema è che le lampade infrarosse tradizionali non sopportano l’acqua. Se vengono messe in ambienti ad alta umidità o se vengono colpite da spruzzi d’acqua, si danneggiano immediatamente.
Per risolvere questo problema, utilizziamo contenitori in quarzo speciali e sigilli impermeabili. Queste lampade sono progettate per resistere alle condizioni ambientali difficili. Possono gestire l’umidità costante e gli shock termici senza danneggiarsi. Si ottiene così una trasmissione diretta del calore, e il sistema rimane affidabile anche in condizioni di umidità elevata.
La parte complicata
Non è tutto semplice. Le radiazioni infrarosse generano un grande calore in un’area limitata, il che significa che bisogna gestire grandi quantità di calore in tempi brevi. Se i sistemi di raffreddamento non sono ben regolati, si rischia di surriscaldare i bordi dei wafer o i sensori. È necessario trovare un equilibrio tra l’energia sufficiente per disidratare i wafer e quella eccessiva che potrebbe causare problemi.
Ma una volta trovato l’equilibrio giusto? È semplicissimo. Basta sostituire i grandi ventilatori rumorosi con un sistema a radiazioni infrarosse compatto. In questo modo, i wafer vengono disidratati più velocemente possibile. Alla fine, l’obiettivo è far passare i semiconduttori attraverso la fase di disidratazione il più rapidamente possibile.