Mengapa kita beralih dari penggunaan udara panas ke teknologi IR dalam proses pengeringan semikonduktor
Jika Anda pernah berada di fasilitas produksi semikonduktor, Anda pasti tahu betapa sulitnya proses pengeringan setelah pencucian. Selama ini, kita menggunakan metode sirkulasi udara panas. Tapi sejujurnya, metode ini sangat lambat. Kita harus menunggu udara untuk menghantarkan panas ke permukaan wafer, dan proses ini membutuhkan waktu yang lama.
Itulah sebabnya kita beralih ke teknologi inframerah (IR). Alih-alih menunggu udara melakukan pekerjaan tersebut, radiasi IR langsung memanaskan permukaan wafer. Ini merupakan cara yang jauh lebih efisien.
Menghemat waktu
Penggunaan udara panas membutuhkan ruang yang cukup besar di ruang bersih. Wafer juga perlu disimpan di sana untuk waktu yang lama agar airnya benar-benar hilang, tanpa meninggalkan jejak tegangan permukaan yang mengganggu.
Kita menggunakan lampu IR yang tahan air agar tidak perlu menunggu lama. Karena energi dari lampu IR dapat menembus cairan dan memanaskan substrat secara instan, proses pengeringan yang sebelumnya membutuhkan beberapa menit kini hanya membutuhkan beberapa detik saja. Dengan demikian, jumlah wafer yang dapat diproses per jam pun meningkat, dan kita tidak perlu merobohkan dinding untuk membuat ruang bagi peralatan tambahan.
Dirancang untuk kondisi lingkungan yang lembap
Masalahnya adalah, lampu IR standar tidak tahan terhadap air. Jika diletakkan di lingkungan dengan kelembapan tinggi atau terkena semprotan air, lampu tersebut akan rusak.
Untuk mengatasi hal ini, kita menggunakan kemasan khusus dari kuarsa serta selubung tahan air. Lampu-lampu ini dirancang untuk bertahan dalam kondisi lingkungan yang lembap dan penuh guncangan termal. Dengan demikian, transfer panas tetap efektif, meskipun kondisinya lembap.
Bagian yang rumit
Namun, ini bukanlah solusi yang sempurna. Radiasi IR memiliki daya panas yang sangat tinggi di area kecil, sehingga panas tersebut bisa menyebar dengan cepat. Jika sistem pendinginan tidak berfungsi dengan baik, maka tepi-tepi wafer bisa terlalu panas, atau sensor-sensornya bisa rusak. Ini membutuhkan keseimbangan yang tepat—perlu ada daya yang cukup untuk mengeringkan air, tetapi tidak sampai menciptakan “titik panas” yang berbahaya.
Tetapi begitu keseimbangan tersebut tercapai, semuanya menjadi mudah. Kita bisa mengganti pemompa udara yang besar dan bising dengan arrais IR yang kompak. Dengan demikian, proses pengeringan dapat berlangsung lebih cepat. Pada akhirnya, tujuannya adalah agar komponen tersebut dapat segera melewati tahap pengeringan.