
На літографічному столі не можна допускати жодних відхилень у температурі. Навіть незначне зміщення температури на півградуса може порушити профіль фоторезисту, і тоді доводиться боротися за контроль над процесом. Якщо дозволити температурі коливатися, з’являються недоліки у вигляді крапель чи інших дефектів, а ще гірше – втрата адгезії, яку складно виправити. Що потрібно – це тепло, яке швидко досягає потрібної температури та залишається на ній протягом кількох циклів.
Що є важливим у цьому процесі
Ми створили ІЧ-лампу для висушування фоторезисту на основі короткочастотного інфрачервоного світла, щоб резист швидко нагрівався. У зоні нагріву однорідність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C, а повторюваність результатів контролюється за допомогою точного термального регулювання. Система працює у чистих приміщеннях класу 1–100 без утворення додаткових частинок. Вона розроблена так, щоб підходити до параметрів та термального профілю основних пристроїв для обробки напівпровідників. Ми вказуємо параметри вихідної потужності, час нагрівання та стабільність температури, адже крок нагрівання має бути точно контрольованим процесом, а не ще однією змінною.
Чому це ефективно у виробництві
Можна оцінити ефективність цього рішення. Швидке нагрівання дозволяє зменшити відхилення температури між серіями виробів, що полегшує контроль процесу. Кращий контроль температури означає менше дефектів, кращу адгезію та менше необхідності повторної обробки. Витрати енергії зменшуються, оскільки лампа постачає тепло лише тоді, коли це необхідно, а не постійно працює на повну потужність. Крім того, пристрій призначений для цілодобової роботи – дані з практики підтверджують, що він може працювати протягом тривалого часу без перерв.
На що потрібно звернути увагу на початковому етапі
Встановлення пристрою полягає у відповідності його електричних та механічних параметрів до параметрів оброблюваних матеріалів. Лампа працює найкраще, коли камера нагрівання є герметичною; будь-які порушення потоку повітря призведуть до локальних неоднорідностей температури. Спочатку необхідно провести тестування, щоб визначити оптимальні параметри роботи пристрою. Після цього процес буде працювати з необхідною стабільністю.