На литографической поверхности нельзя допускать никаких отклонений. Даже небольшое отклонение температуры в полградуса может нарушить правильную структуру фоторезиста. В таком случае приходится постоянно бороться с проблемами, связанными с контролем температуры. Если же температура будет меняться значительно, это приведет к образованию излишков материала на краях поверхности, а также к потере адгезии – что становится очевидно слишком поздно, чтобы его можно было исправить. Необходимо использовать тепло, которое быстро распространяется именно туда, где нужно, и остается на месте из цикла в цикл.
Что важно внутри устройства
Мы разработали инфракрасную лампу для высушивания фоторезиста, используя коротковолновый инфракрасный свет. Это позволяет фоторезисту быстро нагреваться во всем объеме. В зоне нагрева однородность температуры на уровне пластины поддерживается на уровне ±0,1°C, а точность регулировки температуры очень высока. Устройство работает в условиях чистых комнат класса 1–100 без добавления частиц в окружающую среду. Его конструкция соответствует параметрам других полупроводниковых устройств, которые уже используются на производстве. Мы указываем параметры выходной мощности, время до достижения заданной температуры и стабильность её поддержания, ведь процесс нагрева должен быть предсказуемым и не зависеть от различных факторов.
Почему это работает в производстве
Эффективность устройства можно оценить по результатам: процесс нагрева происходит за считанные секунды, что снижает отклонения температуры между партиями продукции. Более строгий контроль температуры способствует снижению количества дефектов, улучшает адгезию и сокращает количество необходимых корректировок. Также снижается потребление энергии, поскольку лампа выделяет тепло только тогда, когда это необходимо. Устройство рассчитано на круглосуточную работу – данные показывают, что оно может работать долгое время без неplanовых остановок.
На что следует обратить внимание при установке
При установке необходимо учитывать электрические и механические характеристики устройства, а также настраивать параметры нагрева в соответствии с химическим составом фоторезиста и структурой подложки. Лампа работает наилучшим образом, когда камера для нагрева герметична; любые нарушения потока воздуха приводят к локальной неравномерности температуры. Сначала необходимо провести тестирование для определения параметров работы устройства. После этого процесс может выполняться с высокой степенью стабильности, что критически важно для производства.