Na linha de produção, as flutuações térmicas não são apenas desvios – elas também causam problemas na qualidade dos filmes depositados. Uma câmara de pulverização que se desvia, mesmo que ligeiramente, do alvo, gera tensões no filme e irregularidades em sua espessura. Isso afeta diretamente os processos de litografia e gravação. Nós desenvolvemos aquecedores infravermelhos para eliminar essa incerteza, mantendo a estabilidade da deposição exatamente onde é importante: na superfície do wafer.
Nosso design de infravermelho de onda curta entrega calor rápido e direto ao wafer, mantendo a uniformidade da espessura do filme dentro de ±0,1°C. A geometria do radiador de quartzo e o controle em circuito fechado permitem que o calor seja distribuído de maneira precisa, evitando superações nas espessuras desejadas. No processo de tratamento com fotoresisto, esse mesmo sistema infravermelho garante uma remoção consistente do solvente durante o pré-assamento, além de um assamento eficaz e uniforme – reduzindo assim problemas como manchas e irregularidades que podem causar erros posteriores.
O sistema foi projetado para funcionar em ambientes de sala limpa. O corpo do aquecedor não gera partículas, permitindo seu uso em ambientes de Classe 1–100. Além disso, os materiais utilizados não liberam gases, evitando contaminações durante longos períodos de uso. A ausência de partículas nas bordas do wafer significa menos rejeições e necessidade de manutenção. Isso resulta em tempos de ciclo estáveis, menor consumo de energia por wafer, e propriedades do filme consistentes em todos os lotes produzidos.
A instalação é simples na maioria das plataformas de pulverização. No entanto, o tamanho compacto do sistema pode exigir mais espaço ao redor dos protetores e acessórios. Planeje a integração com antecedência – configure corretamente a interface de montagem e verifique a distância entre os componentes antes de realizar a mudança de linha de produção. Uma vez instalado, o sistema funciona 24/7 com mínimas flutuações. A repetibilidade garantida pelo sistema se reflete nos resultados das medições, mantendo as especificações dentro dos limites aceitáveis em cada lote produzido.