Di kilang pembuatan wafer, perubahan suhu bukan sekadar penyimpangan biasa – ia sebenarnya boleh merosakkan kualiti wafer yang dihasilkan. Jika bilik suntikan haba menyimpang walaupun sedikit dari titik sasaran, ia akan menyebabkan ketidakteraturan pada ketebalan lapisan yang terbentuk. Ini seterusnya akan mempengaruhi proses litografi dan pengukiran. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang efektif untuk mengurangkan ketidakpastian tersebut, sehingga memastikan kestabilan proses pembentukan lapisan pada permukaan wafer.
Reka bentuk inframerah berfrekuensi rendah ini memancarkan haba dengan cepat dan secara langsung ke permukaan wafer, sekaligus mengekalkan ketekalan suhu pada tahap ±0.1°C. Reka bentuk radiator kuarsa serta sistem kawalan tertutup membantu mengawal suhu dengan tepat, agar ketebalan lapisan yang terbentuk tetap stabil. Dalam proses pemprosesan fotoresist, reka bentuk inframerah ini juga membantu memastikan proses penghilangan bahan pelarut berjalan dengan baik, serta menghasilkan lapisan yang bersih dan konsisten. Ini seterusnya mengurangkan masalah seperti kesilapan CD yang mungkin timbul kemudian.
Sistem ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih. Badan pemanas tidak menghasilkan zarah berbahaya dalam kelas 1–100, dan bahan-bahan yang digunakan juga tidak mengeluarkan gas berbahaya semasa proses suntikan haba berlangsung. Tiada zarah yang terbentuk di tepi wafer, jadi jumlah wafer yang gagal berkurangan, dan kos penyelenggaraan juga berkurangan. Hasilnya, masa proses menjadi lebih stabil, penggunaan tenaga untuk setiap wafer berkurangan, dan kualiti lapisan yang terbentuk tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Pemasangan sistem ini sangat mudah pada kebanyakan platform suntikan haba. Namun, saiznya yang kompak memerlukan ruang yang cukup di sekeliling alat-alat yang digunakan. Rancang integrasi sistem ini lebih awal – pastikan antaramuka pemasangan sesuai dan luang optik mencukupi sebelum menukar konfigurasi sistem. Setelah dipasang, sistem ini dapat beroperasi 24/7 tanpa ada penyimpangan yang signifikan. Kestabilan yang ditunjukkan oleh spesifikasi sistem ini juga dapat dilihat dalam hasil pengukuran, di mana kualiti lapisan tetap konsisten dari batch ke batch yang lain.