팹에서 포토레지스트를 건조시키는 과정에서는 전체 리소그래피 공정에 필요한 열 조건을 설정합니다. 만약 램프의 성능이 저하되면, 소프트 베이크와 하드 베이크의 온도도 변동하게 되며, 이는 몇 분 안에 알 수 있습니다. CD의 위치가 변하고, 표면에 이물질이 생기며, 결국 생산 효율도 떨어집니다. 우리는 이러한 열 조건을 일관되게 유지하기 위해 교체용 필라멘트를 개발했습니다.
중요한 것은 부하가 가해졌을 때의 반복성입니다. 필라멘트는 단파나 중파 형태로 설계되어 있어, 방사선 강도가 일정하게 유지되고, 히트플레이트 표면의 온도도 정확하게 제어됩니다. 방출량이 잘 조절되고 석영 케이스의 형태도 일정하기 때문에, 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 내로 유지됩니다. 우리는 커넥터 유형과 케이스 크기를 원본 장비와 맞추었으며, 표준 전원 공급장치 및 온도 제어 장치와도 호환됩니다.
소재는 가스 방출이 적고 입자가 발생하지 않도록 선택되므로, 클래스 1–100 등급의 청정실에서도 문제가 없으며, 입자 수도 증가하지 않습니다.
실제로 이 방식이 효과적인 이유는 간단합니다. 수천 번의 공정을 거쳐도 포토레지스트 건조의 정밀도가 유지되므로, 폐기물과 재작업이 줄어듭니다. 에너지 소비도 최적화되며, 램프 교체 횟수도 줄어들어 계획되지 않은 가동 중단 시간도 줄어듭니다. 그 결과, 일관된 공정 조건과 안정적인 CD 제어가 가능해집니다.
몇 가지 주의사항: 램프를 설치할 때는 램프의 방향을 정확하게 맞추고, 고정력도 적절히 조절해야 합니다. 정렬이 제대로 되지 않으면 과열된 부분이 생겨 온도 균일성이 깨질 수 있습니다. 램프를 교체하기 전에 반사판의 상태를 확인하고 소켓 접점을 깨끗이 청소해야 합니다. 지정된 전압 범위를 벗어나면 램프의 수명이 줄어들고 온도도 변동할 수 있습니다. 최상의 결과를 얻으려면 필라멘트와 함께 온도 센서도 정기적으로 보정해야 합니다.